近日，中國農(nóng)業(yè)科學(xué)院煙草研究所聯(lián)合國內(nèi)外院校，基于單原子修飾納米材料，利用可見光催化降解技術(shù)，有效減輕了磺酰脲類除草劑對后茬敏感作物的藥害影響。相關(guān)研究成果發(fā)表在《化學(xué)工程雜志（Chemical Engineering Journal）》上。

 

　　磺酰脲類除草劑是目前全球使用量最大的除草劑種類之一，被廣泛應(yīng)用于闊葉雜草及禾本科雜草防治。近年來研究發(fā)現(xiàn)，磺酰脲類除草劑對煙草、玉米、大豆等作物產(chǎn)生的后茬藥害問題嚴(yán)重，但目前仍缺乏高效降解技術(shù)。

 

　　該研究基于可見光催化技術(shù)，開展了磺酰脲類除草劑的降解規(guī)律、降解機理及毒性評價等系列試驗。結(jié)果表明，利用氮化碳納米材料可同步實現(xiàn)多種磺酰脲類除草劑的可見光催化降解，通過單原子修飾可顯著提高納米材料的性能，目標(biāo)除草劑降解速率提高四倍，結(jié)合理論計算對機理進行了深入闡釋，進一步證實該技術(shù)可有效減輕磺酰脲類除草劑對后茬敏感作物的藥害作用。

 

　　該研究得到國家自然科學(xué)基金等項目的資助。
 

　　原文鏈接：https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S138589472202914X